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Offrant une perspective naturelle ainsi qu'une ouverture maximale rapide, le XF 33 mm f/1,4 R LM WR de FUJIFILM est un objectif équivalent à 50 mm caractérisé par son ouverture maximale f/1,4 lumineuse. Cette conception permet de travailler dans des conditions d'éclairage difficiles et offre également un meilleur contrôle de la profondeur de champ pour isoler le sujet et utiliser des techniques de mise au point sélective. La conception optique utilise deux éléments asphériques, ce qui réduit la distorsion et les aberrations sphériques afin d'obtenir une netteté plus élevée et un rendu précis. Trois éléments ED sont également présents, qui réduisent les reflets et les images fantômes pour un contraste et une précision des couleurs améliorés. Cela garantit une résolution inégalée et des couleurs fraîches et éclatantes.
L'objectif principal de longueur normale est conçu pour les appareils photo sans miroir FUJIFILM à monture X au format APS-C et fournit une distance focale équivalente de 50 mm.
L'impressionnante ouverture maximale f/1.4 convient aux travaux dans des conditions d'éclairage difficiles et offre également un contrôle étendu de la profondeur de champ.
Deux éléments asphériques et trois éléments ED limitent la distorsion et l'aberration sphérique afin d'obtenir une plus grande netteté et un rendu précis.
Fournit des couleurs vives et réalistes avec un minimum d'aberrations optiques et des détails exceptionnels.
Le moteur de mise au point automatique linéaire puissant et précis garantit que les images sont toujours nettes. Fournit également une respiration de mise au point minimale et une mise au point manuelle précise jusqu'à une distance de mise au point minimale de 11,8 ".
Le diaphragme arrondi à neuf lames contribue à une qualité de bokeh agréable.
Construction entièrement métallique du corps de l'objectif conçue pour résister à la poussière, à l'humidité et à des températures aussi basses que 14 °F.
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